国林科技:公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节
来源:高浓度臭氧检测仪 发布时间:2024-02-08 04:36:36每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:请问公司的半导体臭氧产生设备是用在芯片制作的什么环节啊?是晶圆厂、封装厂仍是光刻厂? 国林科技(300786.SZ)8月3日在出资者互动
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每经AI快讯,有投入资金的人在出资者互动渠道发问:请问公司的半导体臭氧产生设备是用在芯片制作的什么环节啊?是晶圆厂、封装厂仍是光刻厂?
国林科技(300786.SZ)8月3日在出资者互动渠道表明,公司半导体臭氧产生设备多用于Fab工厂的晶圆制作环节,首要供给清洗、氧化、薄膜堆积工艺制程的运用。
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